電子工業(yè)用超純水概述
半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對(duì)水質(zhì)的要求也越高。目前我國(guó)電子工業(yè)部把電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)分為五個(gè)行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區(qū)分不同水質(zhì)。
我公司現(xiàn)采用工藝，反滲透作預(yù)處理再配上電去離子（EDI）裝置，這是目前制取超純水，zui環(huán)保用來(lái)制取超純水的工藝，不需要用酸堿進(jìn)行再生便可連續(xù)制取超純水，對(duì)環(huán)境無(wú)破壞性。
半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對(duì)水質(zhì)的要求也越高。目前我國(guó)電子工業(yè)部把電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)分為五個(gè)行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區(qū)分不同水質(zhì)。
我公司現(xiàn)采用工藝，反滲透作預(yù)處理再配上電去離子（EDI）裝置，這是目前制取超純水，zui環(huán)保用來(lái)制取超純水的工藝，不需要用酸堿進(jìn)行再生便可連續(xù)制取超純水，對(duì)環(huán)境無(wú)破壞性。
功 能
脫鹽率高，運(yùn)行壓力低的進(jìn)口超低卷式復(fù)合反滲透膜，產(chǎn)水水質(zhì)優(yōu)良，運(yùn)行成本低廉，使用壽命長(zhǎng)。
高效率，低噪音，品質(zhì)*的進(jìn)口高壓泵，減少能耗，降低運(yùn)行噪聲。
進(jìn)口在線原水及產(chǎn)品水電導(dǎo)儀，PH表可隨時(shí)監(jiān)測(cè)水質(zhì)情況。
進(jìn)口在線產(chǎn)品水，濃水流量計(jì)可隨時(shí)監(jiān)測(cè)產(chǎn)品水量及系統(tǒng)回收率。
配置自動(dòng)循環(huán)沖洗系統(tǒng)，以備膜污染后清洗之用。
快沖閥定時(shí)沖洗膜表面，降低膜污染速度，延長(zhǎng)使用壽命。
降TOC紫外線 裝置可有效降低TOC90%。
膜脫氣裝置可使脫氣后水中溶解的氧DO小于5ppb。
運(yùn)行參數(shù)
單機(jī)出力：0.5M3/h-120M3/h
脫鹽率：反滲透系統(tǒng)98%
操作壓力：1Mpa-1.2Mpa
回收率：60%-80%
產(chǎn)品出水電陰率：16-18MΩ.cm
脫鹽率高，運(yùn)行壓力低的進(jìn)口超低卷式復(fù)合反滲透膜，產(chǎn)水水質(zhì)優(yōu)良，運(yùn)行成本低廉，使用壽命長(zhǎng)。
高效率，低噪音，品質(zhì)*的進(jìn)口高壓泵，減少能耗，降低運(yùn)行噪聲。
進(jìn)口在線原水及產(chǎn)品水電導(dǎo)儀，PH表可隨時(shí)監(jiān)測(cè)水質(zhì)情況。
進(jìn)口在線產(chǎn)品水，濃水流量計(jì)可隨時(shí)監(jiān)測(cè)產(chǎn)品水量及系統(tǒng)回收率。
配置自動(dòng)循環(huán)沖洗系統(tǒng)，以備膜污染后清洗之用。
快沖閥定時(shí)沖洗膜表面，降低膜污染速度，延長(zhǎng)使用壽命。
降TOC紫外線 裝置可有效降低TOC90%。
膜脫氣裝置可使脫氣后水中溶解的氧DO小于5ppb。
運(yùn)行參數(shù)
單機(jī)出力：0.5M3/h-120M3/h
脫鹽率：反滲透系統(tǒng)98%
操作壓力：1Mpa-1.2Mpa
回收率：60%-80%
產(chǎn)品出水電陰率：16-18MΩ.cm
環(huán)保在線