污水處理設備 污泥處理設備 水處理過濾器 軟化水設備/除鹽設備 純凈水設備 消毒設備|加藥設備 供水/儲水/集水/排水/輔助 水處理膜 過濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設備
邁可諾技術有限公司
大基板尺寸 | 13英寸直徑 |
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簡介:這款蝕刻和清潔系統專為滿足當今晶圓、光掩模和基板的前沿應用的特殊工藝需求而設計。這款高效的蝕刻和清潔系統CESx124、126、128或133是理想選擇,可滿足不同大小尺寸的晶片、光掩模和襯底,不論是從小直徑還是非常大直徑。CESx可以配置多種工藝分配選項,Megasonic噴嘴對DI H20或化學藥品的處理分配選項;用于化學制劑的低壓噴嘴;化學加熱器和DI-H20;用于表面攪拌以加快反應的
特點:
技術參數:
主營產品:
Laurell勻膠機
Harrick等離子清洗機
Thetametrisis膜厚儀
Microxact探針臺
ALD原子層沉積系統
TRION反應離子刻蝕機
Uvitron紫外固化箱
NXQ紫外曝光光刻機
Novascan紫外臭氧清洗機
Nilt納米壓印機
Wenesco/EMS/Unitemp/NDA加熱板
Annealsys高溫退火爐
Kinematic程序剪切儀
Laurell EDC系統,濕站系統
Wabash/Carver自動壓片機
產品相關關鍵字: 濕法刻蝕系統 刻蝕/剝離系統 化學清洗/刻蝕系統 CESx124 Etch/Strip |
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