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邁可諾技術有限公司
尺寸 | 26英寸寬x 21英寸深x 40英寸高 |
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手動型SCS112
SCS112型是一款高效率手動型的系統,專門設計用于在劃片或劃片后清洗晶片。可通過施加高壓DI水射流或霧化噴嘴來清潔安裝在環(抓環)或膠片框架上的晶圓,然后使用高轉速,氮氣輔助或紅外加熱燈進行快速干燥。該系統大可處理8英寸晶圓。
功能:
選項:
產品參數:
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手動型SCSe124
SCSe124型是用于光掩模,晶圓和基材的亞微米級清潔的理想解決方案。該系統非常可靠且具有成本效益,它經過驗證,擁有各種清潔技術。SCSe124可以配置幾種不同的清潔選項,包括高壓DI水,霧狀噴嘴,刷子,Megasonic噴嘴等等。快速有效的干燥技術是結合了可變轉速和可選項加熱DI水,氮氣輔助或加熱燈。SCSe124具有微處理控制器,該控制器可調整過程參數,并儲存多達10個程序。
功能:
產品參數:
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手動型SCSe126
SCSe126型是用于光掩模,晶圓和基材的亞微米級清潔的理想解決方案。該系統非常可靠且具有成本效益,它經過驗證,擁有各種清潔技術。SCSe126可以配置幾種不同的清潔選項,包括高壓DI水,霧狀噴嘴,刷子,Megasonic噴嘴等等。快速有效的干燥技術是結合了可變轉速和可選項加熱DI水,氮氣輔助或加熱燈。SCSe126具有微處理控制器,該控制器可調整過程參數,并儲存多達10個程序。
功能:
• 徑向排氣腔,可實現大層流。
• 獨立式聚丙烯腔室。
• 微處理器可控制10個程序段。
• 內置安全聯鎖。
• 按鈕蓋啟動 打開/關閉。
• 觸摸屏圖形用戶界面(GUI),易于編程和安全鎖定以及屏幕錯誤報告。
• 多可使用4個機械臂。
?產品參數:
產品相關關鍵字: 手動晶圓清洗系統 濕法顯影掩膜版清洗 光掩膜版清洗 SCS112 亞微米級晶圓清潔 |
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