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邁可諾技術有限公司
直徑 | 大為8英寸的晶圓片 |
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勻膠旋涂儀M-SPIN 200是用于均勻涂覆和干燥晶圓片或襯底。該勻膠旋涂儀適用于直徑大為8英寸的晶圓片,或大為6英寸 x 6英寸的襯底。它可使用分配臂全自動工作,分配移動托盤,可定義數量。該勻膠旋涂儀配備了頂蓋的聯鎖機制,和可視化全圖形觸摸面板。M-Spin 200勻膠旋涂儀包含一個內置模塊,該模塊連接到柔性電纜,外接到一個19英寸外部控件上。
勻膠旋涂儀M-SPIN 200是用于均勻涂覆和干燥晶圓片或襯底。該勻膠旋涂儀適用于直徑大為8英寸的晶圓片,或大為6英寸 x 6英寸的襯底。它可使用分配臂全自動工作,分配移動托盤,可定義數量。該勻膠旋涂儀配備了頂蓋的聯鎖機制,和可視化全圖形觸摸面板。M-Spin 200勻膠旋涂儀包含一個內置模塊,該模塊連接到柔性電纜,外接到一個19英寸外部控件上。
勻膠旋涂儀M-SPIN 200產品參數:
可處理襯底尺寸:直徑大為8英寸的晶圓片,或大為6英寸 x 6英寸的襯底;
旋轉速度:達9,000 rpm(以1 rpm步長可調);
固定晶圓片或襯底的裝置:真空托盤;
處理時間:(1-999秒,可在1秒內調整);
加速度:1-5,000rmp/sec;
其他參數:20個程序段,每個40步
設備尺寸:約 480mmx 360mm x 416mm(不帶蓋子)
控制器尺寸:約 145mmx 100mm x 120mm
產品選配件:
適用各種尺寸大小的托盤
分配臂
泵
主營產品:
Laurell勻膠機
Harrick等離子清洗機
Thetametrisis膜厚儀
Microxact探針臺
ALD原子層沉積系統
TRION反應離子刻蝕機
Uvitron紫外固化箱
NXQ紫外曝光光刻機
Novascan紫外臭氧清洗機
Nilt納米壓印機
Wenesco/EMS/Unitemp/NDA加熱板
Annealsys高溫退火爐
Kinematic程序剪切儀
Laurell EDC系統,濕站系統
Wabash/Carver自動壓片機
產品相關關鍵字: 甩膠機 旋涂儀 勻膠臺 鍍膜機 涂膜機 |
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