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南京科捷檢測科技發展有限公司
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HP2氦氣純化器 科捷氣相色譜配套氣體純化器 操作簡便，輸出流量穩定，可取代傳統的高壓鋼瓶?？蓡为毷褂?，也可同時使用?？砷g斷使用，可連續使用（提倡），且產氣純度不衰減。設有多級保護裝置保護裝置，安全、可靠、穩定。
在去除氮氣方面，HP2加熱型氦氣純化器是的。在允許氮氣存在的應用里，非加熱型Metronics氦氣純化器提供了一個經濟型選擇。
國產以及進口的各型號氣相色譜儀。
◆ Valco可以凈化氦氣或者其他惰性氣體，如Ar、Ne、Kr、Xe中ppm級以下的活性氣體雜質
載氣的純度在任何極度敏感的應用里都是必要的，雜質會限制檢測器的靈敏度，甚至損壞毛細管柱。
◆純化器的純化基質是一種非蒸散型的熱激活性吸氣合金，這種穩定的合金被裝載在一個焊接組件中，在預防措施極簡單的工業應用中也能安全的使用。
◆當吸氣劑被加熱，顆粒表面的氧化層被消除，可以讓氦氣擴散到大量的吸氣劑顆粒里面。
◆自我調節功能的設計使純化器保持吸氣劑原料在zui合適溫度，避免過熱引起運行失控的可能性。
◆微型板被設計安裝在氣相色譜儀上游氣流路，連接進樣口。
◆ HPM可以去除一切由流路控制器、彈性密封管、壓力調節器等和其他不*清潔和防漏的系統零部件產生的污染物。
型號 | HP2 |
純化氣體 | He、Ne、Ar、Kr、Xe、Rn |
zui大工作壓力 | 1000psi |
zui高工作溫度 | 400℃ |
zui大流速 | 1L/min |
可去除雜質 | 可去除雜質：H2O、H2、O2、N2、NO、NH3、CO和CO2； 入口雜質濃度：10ppm級； 出口雜質濃度：10ppb級以下； 其他可去除雜質包括CF4、CCl4、SiH4和CH4等碳氫化合物。 |
未去除雜質 | He、Ne、Ar、Kr、Xe、Rn |
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