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貴金屬粉末用高純水裝置

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更新時間：2022-08-03 13:42:16瀏覽次數：2016次

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產品簡介

貴金屬粉末用高純水裝置

詳細介紹

●簡介　　主要用于制造高純水，產水電阻率為10-18MΩ·CM（25C）,二氧化硅含量（SIO2）≤0.02mg/L, 混床分為單、雙床、拋光床、雙床可一用一備，（不影響生產用水的連續性）；可串聯使用，以提高產水水質，有效利用樹脂的交換容量；當生產用水量大時，可并聯使用，運行相當靈活、方便。出水電導率由高精度電阻率儀監控。環保型再生系統，高濃度酸堿通過射流器與進水按一定的比例配制成再生溶液進行再生，不需要酸堿泵及酸堿配制儲罐，防止酸霧對環境的污染。
●用　途·
制藥水質潢足中國藥典GMP標準·
電子行業廣泛用于單晶硅半導體集成電路塊，顯象管制造系統·
化工·
電鍍·
生物工程·
電路板芯片· 要求達到電子級ⅠⅡ的標準水質
汽車行業符合車身涂裝要求的去離子水系統

關鍵詞：電路板芯片