ABL3600氣浮平臺

1專為掃描顯微鏡/掩模/晶片檢測*應用設計
2雙軸,大孔,開放式結構
3非接觸直線編碼器反饋,精度高
4雙直線電機驅動XY軸
5所有軸全預加負載氣浮導軌(空氣軸承)
行程≤250mm
精度±1um
重復定位精度±0.20um
直線度±0.50um
平面度±1um

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ABL8000氣浮平臺

1專為有效負載大,負載重心偏離機架中心線的應用設計
2十字交叉結構,剛性穩定性引人注目,幾何特性*
3所有軸全預加負載氣浮導軌(空氣軸承)
4行程達1米
5直線編碼器或激光干涉儀反饋
6可集成包括花崗巖的XY子系統
行程≤1000mm
精度±0.50um
重復定位精度±0.20um
直線度±0.40um
平面度±0.40um

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ABL9000氣浮平臺

1世上zui高性能的氣浮平臺,適用于晶片,平板顯示,光學檢測和加工等要求苛刻的場合
2所有軸全預加負載氣浮導軌(空氣軸承)
3行程達1.2米X1.2米
4Y軸雙直線電機驅動
5直線編碼器或激光干涉儀反饋
6主動控制偏轉
行程≤1200mm
精度±0.50um
重復定位精度±0.10um
直線度±0.50um
平面度±0.50um