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高真空蒸鍍儀

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更新時間：2017-07-18 08:35:39瀏覽次數：911次

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西安萊安工貿有限公司

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產品簡介

K950X高真空蒸鍍儀在使用碳棒蒸鍍時可給出連續的碳膜，并且使用渦輪分子泵時無污染。它可用于TEM和X-Ray分析中的覆膜，以及SEM中的導電涂層。

詳細介紹

在厚度為2nm (20埃)或更厚時膜是連續的。zui通常的沉積形式是加熱碳或石墨棒。棒具有特定的形狀以達到zui大電流密度，使得它具有足夠的溫度來引起蒸發。基于這點，出現了細小的、亮的、熱的碳顆粒。此系統需要用擴散泵或渦輪分子泵達到1x10-4 mbar或更高的真空度。

渦輪分子泵在K950X中作為標準配置，此泵作為機械真空泵的后級泵，真空為全自動控制，真空度優于1x10-5 mbar。可進行預熱及除氣控制，同時用瞬時蒸發開關使脈沖蒸發在用戶控制下進行。

標準的旋轉樣品臺可進行傾斜調節，非常容易適應各種樣品座。可選的樣品臺具有特殊的凹槽，可放置標準的載玻片，這在“石棉分析”需要鍍碳層時尤為有利。

碳棒頭在儀器中作為標準件。這是一個“快速釋放頭”，使用戶在選擇金屬蒸發附件、碳絲及光闌清洗頭時可方便地更換。放氣系統具有互鎖裝置，避免樣品受到干擾。渦輪分子泵可安裝在任何軸上，并且可安全地“關閉”直接通大氣。

● 全自動抽氣系統
● 旋轉樣品臺
● 菜單驅動式“用戶”鍵盤輸入
● 快速釋放頭方便選擇不同的頭
● 約束的排氣控制
● 渦輪分子泵抽真空

● 容易操作
● 均勻的樣品涂層
● 方便多用戶操作
● 可用于蒸碳及蒸鍍金屬
● 在排氣過程中可防止樣品損壞
● 碳棒或碳絲蒸發

儀器尺寸：450mm W x 350mm D x 175mm H (Overall height with Work Chamber 750mm) 重量：28Kg

工作腔室：硼硅酸鹽玻璃165mm Dia x 125mm H

安全鐘罩：聚碳酸酯

鋁機座：110mm Dia x 115mm H

碳源：直徑3.2mm碳棒

旋轉樣品臺：直徑為60 mm，傾斜0-90^o
到電極距離為110mm 到 130mm

真空計范圍：ATM - 1x10^-5 mbar

操作真空：1x10^-2 to 1x10^-5 mbar

安培計：0-50 Amps

低電壓選擇：0-5V-15V-25V

除氣電流：0-25 Amps

渦輪分子泵：50L/Second

Services -Argon - Nominal 4psi. Rotary Backing Pump -Two Stage Vacuum Pump No. 2, 35L/Min
complete with Vacuum Hose & Oil Mist Filter. 2m³/Hr

電源：230V 50Hz (包括泵zui大電流8 安培)；115V 60Hz(包括泵zui大電流16 安培)