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上海依肯機械設備有限公司


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CMSD2000在線式研磨乳化機 雙螺旋混合機

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產(chǎn)品型號CMSD2000

品       牌

廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

所  在  地上海市

聯(lián)系方式:梁凱月查看聯(lián)系方式

更新時間:2023-05-30 09:57:54瀏覽次數(shù):467次

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經(jīng)營模式:生產(chǎn)廠家

商鋪產(chǎn)品:100條

所在地區(qū):上海上海市

聯(lián)系人:梁凱月 (銷售工程師)

產(chǎn)品簡介

CMSD2000在線式研磨乳化機設計*,能夠延長易損件的使用時間,因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎??梢砸粰C多用,也可以單獨使用,且粉碎粒度范圍廣,成品粒徑可以進行調(diào)整。

詳細介紹

CMSD2000在線式研磨乳化機,管線式研磨分散乳化機,高剪切研磨乳化機,立式研磨乳化機,分體式研磨乳化機,管線式研磨乳化機,進口研磨乳化機,高剪切研磨乳化機,上海研磨乳化機

 

IKN研磨分散機設計*,能夠延長易損件的使用時間,因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎??梢砸粰C多用,也可以單獨使用,且粉碎粒度范圍廣,成品粒徑可以進行調(diào)整。

 

研磨乳化機是IKN(上海)公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝,我們將三級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料,然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。磨頭下面的膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)。7890/13789RPM 可以通過變頻調(diào)速通過皮帶加速 我們軸承可以承受140000RPM(轉速是他們的3-4倍,研磨的力度也是他們的3-4倍,這樣研磨的細度更?。?。


IKN研磨乳化機結構:三道磨碎區(qū),一級為粗磨碎區(qū),二級為細磨碎區(qū),三級為超微磨碎區(qū)。雖然都是三級結構,但是他們的設計不同理念不同,形狀及齒列的結構。
                

  研磨乳化機特高精度(8SF)均質(zhì)頭:主要用于擠壓、催化、加快溶解以及要求特高精度的粉碎。特別適合于微乳化和精細懸浮,可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒經(jīng)分布更窄。

 

特別應用于:疫苗,細胞破碎,膠體溶液,金屬氧化物懸浮液,墨水,印刷涂料,色素混合等等。主要針對低粘度范圍的物料,也可以和一個喂料泵相連。

CMSD2000在線式研磨乳化機,管線式研磨分散乳化機,高剪切研磨乳化機,立式研磨乳化機,分體式研磨乳化機,管線式研磨乳化機,進口研磨乳化機,高剪切研磨乳化機,上海研磨乳化機

 

研磨分散機的特點:

1、 線速度很高,剪切間隙非常小,當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨

 

2、 定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

3 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉子之間的距離

4、 在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

5、 高質(zhì)量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

設備其它參數(shù):

設備等級:化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
電機形式:普通馬達、變頻調(diào)速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
電源選擇 380V/50HZ220V/60HZ440V/50HZ
電機選配件 PTC 熱保護、降噪型
研磨分散機材質(zhì)SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機選配:儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
研磨分散機表面處理:拋光、耐磨處理
進出口聯(lián)結形式:法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機選配容器:本設備適合于各種不同大小的容器

 

從設備角度來分析,影響研磨分散機效果因素有以下幾點:

1.研磨頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次式要好)

2.研磨頭的剪切速率,(越大效果越好)

3.研磨的齒形結構(分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好)

4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間(可以看作同等電機,流量越小效果越好)

5.循環(huán)次數(shù)(越多效果越好,到設備的期限就不能再好了。)

 

線速度的計算:

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-轉子 間距 (m)

由上可知,剪切速率取決于以下因素:

轉子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。 
IKN 定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D(轉子直徑)X 轉速 RPM  /   60

 所以轉速和分散頭結構是影響分散的一個zui重要因素,超高速分散均質(zhì)分散機的高轉速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的

 

CMD2000系列研磨分散機設備選型表
 

型號

流量

L/H

轉速

rpm

線速度

m/s

功率

kw

入/出口連接

DN

CMD2000/4

300

9000

23

2.2

DN25/DN15

CMD2000/5

1000

6000

23

7.5

DN40/DN32

CMD2000/10

2000

4200

23

22

DN80/DN65

CMD2000/20

5000

2850

23

37

DN80/DN65

CMD2000/30

8000

1420

23

55

DN150/DN125

CMD2000/50

15000

1100

23

110

DN200/DN150

 

流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%

 

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