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德國Sentech 等離子刻蝕機 ICP-RIE SI 500

參考價面議
具體成交價以合同協議為準
  • 公司名稱深圳市科時達電子科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       號ICP-RIE SI
  • 所  在  地
  • 廠商性質其他
  • 更新時間2023/6/16 18:39:03
  • 訪問次數227
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深圳市科時達電子科技有限公司創建于2011年,經過十年的發展,已經成長為一家專注于電子材料、半導體儀器設備、醫療設備三大產品領域的,是一家集研發、制造、銷售為一體的企業。我們的主營業務涉及了研發銷售及加工電子材料及周邊產品;電子光電產品設備研發組裝及銷售,半導體儀器設備銷售;國內貿易、貨物及技術進出口;醫療器械研發及銷售;醫用耗材及醫療用品的銷售等。科技創新是科時達公司的核心競爭力。我們擁有一支高度專業化的技術研發和管理團隊,建立了國內的實驗室和光電研究中心,與多家科研機構與大專院校開展“產、學、研”合作,成功開發出一系列具有高科技含量的市場產品,公司產品通國內科研機構的產品認證。同時,公司擁有電子信息領域相對完備的科技創新體系,在電子裝備、醫療設備、產業基礎、網絡安全等領域占據技術主導地位,肩負著支撐科技自立自強、推進國內科技現代化、加快數字經濟發展、服務社會民生的重要職責。聚焦“三大定位”主責,科時達公司按照“做優電子裝備、做大儀器設備、做精產業基礎、做強研發銷售”的總體布局,持續優化核心業務體系,推動企業在科技現代化建設、現代產業體系建設的核心關鍵技術節點上“布點”,在產業鏈價值鏈創新鏈關鍵環節上“成線”,在關系國家、國民經濟命脈和國計民生關鍵領域上“控面”。做強電子裝備,重點發展利用聲、光、電磁信號進行信息感知、傳輸、運用等的系統級裝備和產品,打造全域多維一體新一代電子裝備,不斷夯實在高校科研領域和高科枝企業的提供地位。做大儀器設備,重點發展半導體儀器基礎設施和醫療設備應用與整體解決方案,全面支撐基于網絡信息體系的聯合和全域能力提升、國家治理能力提升和數字化發展。做精產業基礎,重點打造形成電子基礎產品科研和生產的基礎支撐能力,以夯實產業鏈供應鏈自主可控能力為根本目標,推動以“科時達基因”為核心的銷售集群式發展。做強研發銷售,致力于電子產品的研發。科時達公司是一家,多年來公司研發團隊致力于電子材料、半導體儀器和醫療設備的研發。同時企業還致力于將產品做好國內外市場銷售,在整體銷售模式中具備一套完整的銷售體系。以客戶需求為導向,以質量求生存,科時達公司以超凡的品質和優良的服務,獲得國內外市場的一致認可;公司營銷網絡覆蓋,產品世界各地,目前已經成為國內電子科技行業中重要的生產制造基地。
德國Sentech等離子刻蝕機ICP-RIESI500低損傷刻蝕由于離子能量低,離子能量分布帶寬窄,因此可以用我們的等離子體刻蝕機SI500進行低損傷刻蝕和納米結構的刻蝕
德國Sentech 等離子刻蝕機 ICP-RIE SI 500 產品信息

德國Sentech 等離子刻蝕機 ICP-RIE SI 500



低損傷刻蝕

由于離子能量低,離子能量分布帶寬窄,因此可以用我們的等離子體刻蝕機SI 500進行低損傷刻蝕和納米結構的刻蝕。



自主研發的ICP等離子源

三螺旋平行板天線(PTSA)等離子源是SENTECH等離子體工藝設備的屬性。PTSA源能生成具有高離子密度和低離子能量的均勻等離子體。它具有高耦合效率和非常好的起輝性能,非常適用于加工各種材料和結構。



高速刻蝕

對于具有高深寬比的高速硅基MEMS刻蝕,光滑的側壁可以通過室溫下氣體切換工藝或低溫工藝即可很容易地實現。



動態溫度控制

在等離子體刻蝕過程中,襯底溫度的設定和穩定性對于實現高質量蝕刻起著至關重要的作用。動態溫度控制的ICP襯底電極結合氦氣背冷和基板背面溫度傳感,可在-150°C至+400°C的廣泛溫度范圍內提供了優良的工藝條件。


SI 500為研發和生產提供*的電感耦合等離子體(ICP)工藝設備。它基于ICP等離子體源PTSA,動態溫度控制的襯底電極,全自動控制的真空系統,使用遠程現場總線技術的*的SETECH控制軟件和用于操作SI 500的用戶友好的通用接口。靈活性和模塊化是SI 500主要的設計特點。



SI 500 ICP等離子刻蝕機,可以用于加工各種各樣的襯底,從直徑高達200 mm的晶片到裝載在載片器上的零件。單晶片預真空室保證穩定的工藝條件,并且切換工藝非常容易。



SI 500 ICP等離子刻蝕機,通過配置可用于刻蝕不同材料,包括但不于例如三五族化合物半導體(GaAs, InP, GaN, InSb),介質,石英,玻璃,硅和硅化合物(SiC, SiGe),還有金屬等。


ENTECH提供用戶不同級別的自動化程度,從真空片盒載片到一個工藝腔室到六個工藝模塊端口,可用于不同的蝕刻和沉積工藝模塊組成多腔系統,目標是高靈活性或高產量。SI 500 ICP等離子刻蝕機也可用作多腔系統中的工藝模塊。


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