產品簡介：4"高真空RTP爐OTF-1200X-4-RTP-HV 是一款精巧型快速熱處理管式爐，配有4"石英管及高真空系統（機械泵+分子泵）， 是專為半導體或太陽能電池基片（3"）的退火而設計。本機采用10KW紅外燈管加熱，升溫速度為50℃/s，設有30段溫度控制，精度為±1℃。此外，通過RS485口和控制軟件可在計算機上實現實時控制和溫度曲線顯示。
控溫儀表操作視頻
| 產品型號 | 4″高真空RTP爐OTF-1200X-4-RTP-HV |
| 安裝條件 | 本設備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水：設備配有自循環冷卻水機（加注純凈水或者去離子水） 2、電：AC380V 50Hz（63A空氣開關），必須有良好接地 3、氣：設備腔室內需充注氬氣（純度99.99%以上），需自備氬氣氣瓶（自帶6mm雙卡套接頭） 4、工作臺：尺寸1500mm×600mm×700mm，承重200kg以上 5、通風裝置：需要 |
| 主要特點 | 1、石英樣品架固定在滑動法蘭上，使樣品裝載更加容易。 2、樣品架上放置76mm的AlN基片，承載需要退火的樣品。AIN具有很高的熱導率，可使樣品放置的區域有很好的溫度均勻性（±5℃）。 3、內插式熱偶保證了溫度的準確性。 4、采用PID自動溫度控制，30段程序，并設有過熱和斷偶保護功能。 5、已通過CE認證。 |
| 技術參數 | 1、電源：爐體單相208V-240V，50Hz/60Hz，10KW 高真空系統AC110V/220V任意切換，50Hz/60Hz，110W 2、爐體結構：雙層莫來石鋼構 3、石英管：外徑Ø110mm，內徑Ø103mm，長380mm 4、樣品架：76mm 5、加熱元件：8根紅外燈管，燈絲長200mm，絲圈Ø10mm，燈長300mm 6、加熱區：102mm×305mm，均勻性±5℃ 7、熱偶：K型熱偶 8、溫度：溫度1100℃，額定溫度1000℃，在1000℃-1100℃下保溫時間不得超過600s 9、控溫精度：±0.5℃ 10、升溫速度：RT-800℃內50℃/s，800℃-1000℃內10℃/s 11、高真空系統氣動時間：2min 12、真空度：6.3×10-5mbar（在40min中） 13、真空法蘭：KF-D25，配有兩個高溫O型圈密封 14、流量計：16ml/min-160ml/min 15、前級泵流速：在10mbar狀態下3.8L/min，50Hz；4.4L/min，60Hz |
| 產品規格 | 爐體：尺寸760mm×330mm×530mm，重量50kg 高真空系統：尺寸：600mm×600mm×700mm，重量18kg |
