（1） 注入機中的磁性離子分析器能將需要的雜質(zhì)離子從混合的離子束中分離出來。
（2） 加速管。為了獲得更高的能量（也就是運動速度）日本HD裝卸設(shè)備諧波CSF-50-160-2UH，正離子還需要在加速管中的電場下進行加速。
（3） 掃描系統(tǒng)。注入機離子束斑約1~3cm2，日本HD裝卸設(shè)備諧波CSF-50-160-2UH需要通過掃描覆蓋整個硅片。可以通過固定硅片，移動束斑，或者相反操作進行掃描。掃描系統(tǒng)有靜電掃描、機械掃描、混合掃描和平行掃描。
（4） 工藝腔。離子束注入在工藝腔中進行。一般工藝腔包括掃描系統(tǒng)、硅片裝卸終端臺、硅片傳輸系統(tǒng)、檢測系統(tǒng)，以及控制溝道效應(yīng)的裝置。
離子注入?yún)?shù)主要有劑量和射程。日本HD裝卸設(shè)備諧波CSF-50-160-2UH劑量是單位面積硅片注入的離子數(shù)，單位是原子每平方厘米（或離子每平方厘米）。射程是離子注入過程中，離子穿入硅片的總距離。注入機的能量越高，則雜質(zhì)原子穿入硅片深度越大。
