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智能型HMDS系統真空泵,HMDS涂膠機干泵

參考價面議
具體成交價以合同協議為準
  • 公司名稱上海雋思實驗儀器有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地上海
  • 廠商性質生產廠家
  • 更新時間2022/7/22 14:00:48
  • 訪問次數2071
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上海雋思實驗儀器有限公司(以下簡稱“雋思儀器”)是一家專業從事儀器設備研發、生產、銷售及服務的企業。主要生產半導體工藝設備、環境模擬儀器設備、線纜試驗機、橡塑試驗檢測設備、黑蒜設備等的高新技術型企業,具有很強的自主開發、設計能力,服務于電子、電力、通訊、環保、農業,建筑,節能等行業;多年來,公司以“真摯的服務、優質的品質”為宗旨,為國內外廣大用戶提供了周到的售前、售中、售后服務。贏得了國內外客戶的*好評,更為我們業務的快速發展奠定了一定的基礎。我們的服務也更精益求精,更完善!
 雋思儀器主要業務有HMDS預處理系統,HMDS烘箱,潔凈烤箱,百級潔凈烘箱,氮氣烘箱,高溫無氧烘箱,真空無氧烘箱,無塵無氧化烘箱,抗粘劑涂膠機,精密恒溫加熱臺,快速高低溫氣流儀,超低溫試驗箱高低溫試驗箱,高低溫交變濕熱箱定做,HMDS真空涂膠烘箱,低溫脆性檢測儀,黑蒜發酵設備,導體直流電阻測試儀,電線電纜檢測儀器,真空烘箱,黑蒜試驗機,橡塑檢測試驗機等。
    不斷追求技術進步、提升專業服務能力,做一個專業的儀器設備供應商是我們的發展目標。企業內部實施了CRM、ERP項目管理,在產品開發、質量控制、集成供應鏈、人力資源管理、財務管理等諸多方面取得了長足發展。同時建立了標準化的服務流程,形成了覆蓋全國的快速服務網絡,以盡心盡責的服務理念和完備的技術得到用戶的*稱贊。我們將珍視每一次與您合做的機會,以飽滿的熱情、真誠的服務與您共創燦爛的未來!





HMDS烘箱,百級潔凈烘箱,氮氣烘箱,高溫無氧烘箱,PI烤箱,真空無氧烘箱,無塵無氧化烘箱,抗粘劑涂膠機,精密恒溫加熱臺,超低溫試驗箱
智能型HMDS系統真空泵,HMDS涂膠機干泵密封設計(電機和所有軸承與真空環路*隔開)延長了軸承的使用壽命, 還可提供潔凈、無油的真空條件。可選的集成入口保護閥內置于泵模塊中, 可根據需要使用,不會額外增加泵的高度。
智能型HMDS系統真空泵,HMDS涂膠機干泵 產品信息

智能型HMDS系統真空泵,HMDS涂膠機干泵說明

    IDP-10 渦旋式干泵是一款緊湊、高性能的無油真空泵,易于維護。在世 界各地不同的頻率和輸入電壓下,變頻驅動電機均可提供均一的真空性能。

密封設計(電機和所有軸承與真空環路*隔開)延長了軸承的使用壽命, 還可提供潔凈、無油的真空條件。可選的集成入口保護閥內置于泵模塊中, 可根據需要使用,不會額外增加泵的高度。

智能型HMDS系統真空泵,HMDS涂膠機干泵技術性能

最高抽速                           全速條件下 170 L/min (10.2 m3/h)

 

介質

氣體

極限壓力

2.0 × 10-2 mbar (1.5 × 10-2 Torr)

最大入口壓力

1.0 個大氣壓 (0 psig)

推薦的最大連續入口壓力

2.0 × 10-2 mbar (1.5 × 10-2 Torr)

標稱電壓下最大出口壓力

1.34 個大氣壓 (5 psig)

入口連接

NW25

排氣口連接

NW16

氣鎮

0.25 英寸美國標準管內螺紋(提供 20 µm燒結插頭)

SAE-2 5/16-24

根據 Pneurop 6602 處理水蒸氣

最大 120 g/h

運行環境溫度

5-40 °C 41-104 °F

儲存溫度

–20-60 °C (–4-140 °F)

馬達額定功率

0.5 HP (350 W) 3? 變頻驅動

工作電壓

100-127 200-240 VAC, 50/60 Hz

馬達熱保護

自動熱保護

工作速度

63.33 Hz: 1900 rpm 45 Hz: 1350 rpm

冷卻系統

風冷

重量

僅泵:  24.74 kg 54.5 ),運輸重量:  28.1 kg 62 磅)

尺寸(高 ×  ×  (mm)

297 × 260 × 420

泄漏速度(密封排氣口時)

< 1 × 10-6 sccs (1 × 10-6 mbar.l/s)

噪音水平

53 +/- 2 dB (A)

入口處振動水平

7 mms-1 rms

計時器

提供一體式計時器

輻射與抗擾性

EN 61236-1:2013,屬 A 類設備

安全性

通過 EN/IEC 61010 第 3 版認證


   HMDS預處理系統通過對烘箱預處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS,降低了HMDS處理后的硅片接觸角,降低了光刻膠的用量,提高光刻膠與硅片的黏附性。適用于硅片、砷化鎵、陶瓷、不銹鋼、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、晶圓等材料預處理及相關行業。


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