日本IMT獨立負(fù)載型自動拋光機(jī) Rana-3
Rana-3采用單獨加載方式，可自由設(shè)置1-6個樣品。
由于可以改變支架的轉(zhuǎn)數(shù)，所以可以在相同的轉(zhuǎn)數(shù)下對支架和盤進(jìn)行拋光，并且拋光表面不會傾斜或變成鉛筆狀。
支架和圓盤都可以向前和向后旋轉(zhuǎn)。
主要特點
可以在不失去平行度的情況下進(jìn)行研磨！根據(jù)推薦拋光理論，通過以相同的轉(zhuǎn)速和方向旋轉(zhuǎn)刀柄和磨盤，可以在不損失工件平行度的情況下進(jìn)行研磨。
由于 Rana-3 可以改變刀柄的旋轉(zhuǎn)次數(shù)，因此可以通過沿相同方向和相同次數(shù)旋轉(zhuǎn)而不會失去平行度的磨削。
此外，圓盤和支架都可以反向旋轉(zhuǎn)，因此即使是慣用左手的人也可以輕松進(jìn)行手工拋光。粗拋光砂紙或拋光墊
圓盤轉(zhuǎn)速200rpm/Holder200rpm
精細(xì)拋光鉆石+琢磨布
碟片轉(zhuǎn)速 50-150rpm / 支架 50-150rpm
壓力可以自動增加或減少到設(shè)定的秒數(shù)！配備自動升壓功能和樣品自動降壓功能。
可以輸入從開始到設(shè)定的秒數(shù)逐漸增加壓力。
您可以設(shè)置秒數(shù)并將輸入設(shè)置為逐漸增加或減少壓力。拋光條件（壓力/轉(zhuǎn)速）可分 3 步更改！可以在一個過程中輸入和改變拋光過程中的三個階段的運動。（ABC設(shè)置）對于
脆性材料和鋒利邊緣樣品，可以在低壓低轉(zhuǎn)速下開始操作，逐漸改為高壓高轉(zhuǎn)速。可記憶16種拋光條件！最多可記錄 16 種拋光條件。
當(dāng)需要制備多個樣品時，可以為每個樣品存儲研究條件，從而實現(xiàn)高效工作。
日本IMT獨立負(fù)載型自動拋光機(jī) Rana-3
| 電源 | 單相100V或單相200-220V 三相200-220V |
|---|---|
| 尺寸/重量 | W450 x D705（至排水管）x H500（頭部抬起時為630）mm，65 kg |
拋光部分
| 磁盤大小 | 拋光盤：Φ250mm AL Takuma 盤：Φ250mm 磁面盤：Φ250mm * 盤單獨出售 |
|---|---|
| 圓盤轉(zhuǎn)速 | 50-400 rpm（正反轉(zhuǎn)可切換） |
| 電機(jī)輸出 | 400W（100 / 200V：減速電機(jī)） |
| 手術(shù) | （防水型）觸摸屏，帶非永jiu性停止按鈕 （數(shù)字型）定時器自動停止 可記憶 16 個拋光條件 ABC 設(shè)置（* 拋光過程中的條件可以設(shè)置為 3 個階段） |
| 給排水功能 | 用供水旋塞打開和關(guān)閉（帶供水/排水軟管） |
樣品旋轉(zhuǎn)部分
| 支架旋轉(zhuǎn) | 50-200 rpm（正反轉(zhuǎn)可切換） |
|---|---|
| 電機(jī)輸出 | 120W無刷電機(jī) |
| 樣本數(shù) | 1~6個自由選擇*φ50mm最多3個 |
| 樣品架 | Φ25mm, 30mm, 40mm x 6, Φ50mm x 3 * 定制尺寸支架和特殊夾具需要咨詢 * 支架單獨出售 |
| 加壓 | 每個樣品 10-50N |
| 潤滑器 | 標(biāo)準(zhǔn)附件（流量模擬調(diào)整型） |
| 氣源 | 0.5～0.7Mpa ※0.7Mpa以上時，需要單獨的調(diào)節(jié)器。 |
