等離子UV光解凈化設(shè)備簡介
UV光解凈化設(shè)備運用特殊的高能量,高臭氧紫外線紫外光束照射惡臭氣體,改變惡臭氣體的分子鏈結(jié)構(gòu),使有機或無機高分子惡臭化合物分子鏈降解為高能紫外光束照射下的低分子化合物,如CO2、 H2O等。
它改變了使用活性碳材料的工藝技術(shù),無需再生處理原料,無需專人負(fù)責(zé),不產(chǎn)生二次污染,更換及維護保養(yǎng)方便(可在設(shè)備正常運行情況下更換維護操作)。
低溫等離子體去除污染物的機理:
等離子體化學(xué)反應(yīng)過程中,等離子體傳遞化學(xué)能量的反應(yīng)過程中能量的傳遞大致如下:
(1) 電場+電子→高能電子
(2) 高能電子+分子(或原子)→(受激原子、受激基團、游離基團) 活性基團
(3) 活性基團+分子(原子)→生成物+熱
(4) 活性基團+活性基團→生成物+熱
過程一:高能電子直接轟擊
過程二:產(chǎn)生氧原子、臭氧、羥基自由基及小分子碎片
O2 + 2e → 2O·
O2 + O· → O3 + e
H2O + 2e → H· + HO·
H2O + O·+ e → 2HO·
H· + O2 → HO· + O
C(a+b)H(m+n)O(x+y) + 2 e → CaHmOx ·+ CbHnOy·
過程三:分子碎片氧化
CaHmOx + HO·→ CO2 + H2O
CaHmOx + O·→ CO2 + H2O
CaHmOx + O2→ CO2 + H2O
CaHmOx + O3→ CO2 + H2O
經(jīng)過低溫等離子凈化后,廢氣尚含有部分小分子的物質(zhì)及臭氧,采用水洗工藝可以對污染物進行進一步處理,同時減少廢氣中臭氧含量。相關(guān)反應(yīng)機理如下:
H2O + e → H· + HO· + e
H· + O3 → O2 + HO·
HO· + O3 → HO2· + O2
HO2· + O3 → HO· + O2
因此在此過程中,部分小分子有機物可進一步被羥基自由基氧化而予以去除。
從以上過程可以看出,電子首先從電場獲得能量,通過激發(fā)或電離將能量轉(zhuǎn)移到分子或原子中去,獲得能量的分子或原子被激發(fā),同時有部分分子被電離,從而成為活性基團;之后這些活性基團與分子或原子、活性基團與活性基團之間相互碰撞后生成穩(wěn)定產(chǎn)物和熱。另外,高能電子也能被鹵素和氧氣等電子親和力較強的物質(zhì)俘獲,成為負(fù)離子。這類負(fù)離子具有很好的化學(xué)活性,在化學(xué)反應(yīng)中起著重要的作用。
等離子有機廢氣凈化器產(chǎn)品,無需增大抽風(fēng)設(shè)備風(fēng)阻小,安裝簡便,等離子UV光解凈化設(shè)備可根據(jù)客戶現(xiàn)場環(huán)境要求分組制造,方便運輸及安裝。設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊,投資低,操作方便,