EDI純水設備模塊基本工作原理：
EDI純水設備模塊是一種將離子交換技術、離子交換膜技術和離子電遷移技術(電滲析技術)相結合的純水制造技術。該技術利用離子交換能深度脫鹽來克服電滲析極化而脫鹽不*,又利用電滲析極化而發生水電離產生H和OH離子實現樹脂自再生來克服樹脂失效后通過化學藥劑再生的缺陷,是20世紀80年代以來逐漸興起的新技術。經過十幾年的發展,EDI技術已經在北美及歐洲占據了相當部分的超純水市場
EDI裝置包括陰/陽離子交換膜、離子交換樹脂、直流電源等設備。其中陰離子交換膜只允許陰離子透過,不允許陽離子通過,而陽離子交換膜只允許陽離子透過,不允許陰離子通過。離子交換樹脂充夾在陰 陽離子交換膜之間形成單個處理單元,并構成淡水室。單元與單元之間用網狀物隔開,形成濃水室。在單元組兩端的直流電源陰 陽電極形成電場。來水水流經淡水室,水中的陰 陽離子在電場作用下通過陰 陽離子交換膜被清除,進入濃水室。在離子交換膜之間充填的離子交換樹脂大大地提高了離子被清除的速度。同時,水分子在電場作用下產生氫離子和氫氧根離子,這些離子對離子交換樹脂進行連續再生,以使離子交換樹脂保持狀態。EDI裝置將給水分成三股獨立的水流:純水、濃水、和極水。純水(90%-95%)為終得到水,濃水(5%-10%)可以再循環處理,極水(1%)排放掉。圖2表示了ＥＤＩ的凈水基本過程。
       EDI裝置屬于精處理水系統,一般多與反滲透(RO)配合使用,組成預處理、反滲透、EDI裝置的超純水處理系統,取代了傳統水處理工藝的混合離子交換設備。EDI裝置進水要求為電阻率為0.025-0.5ＭΩ·ｃｍ,反滲透裝置*可以滿足要求。EDI裝置可生產電阻率高達18ＭΩ·ｃｍ以上的超純水。

       EDI設備一般以反滲透（RO）純水作為EDI給水。RO純水電阻率一般是40-2μS/cm（25℃)。EDI純水電阻率可以高達18 MΩ.cm(25℃)，但是根據去離子水用途和系統配置設置，EDI純水適用于制備電阻率要求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的純水。EDI技術被制藥工業、微電子工業、發電工業和實驗室所普遍接受。在表面清洗、表面涂裝、電解工業和化工工業的應用也日趨廣泛。
EDI純水設備安裝要求：
1、無須專做安裝基礎，地基堅實水平即可
2、入水水壓如低于0.2 Mpa需加裝管道泵
3、使用前需先沖洗管道，避免雜質堵塞閥體，污染樹脂
4、不可用加鹽、加鈣鹽作再生劑，定期向鹽罐加鹽，確保鹽水飽和濃度（應保證溶 解時間不小于六小時）。