手提泵吸式多參數(shù)異氰酸酯基亞甲基氣體分析儀/檢測(cè)儀-深國(guó)安
SGA-608-C12H18N2O2 面議污水處理設(shè)備 污泥處理設(shè)備 水處理過(guò)濾器 軟化水設(shè)備/除鹽設(shè)備 純凈水設(shè)備 消毒設(shè)備|加藥設(shè)備 供水/儲(chǔ)水/集水/排水/輔助 水處理膜 過(guò)濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設(shè)備
北京卓立漢光儀器有限公司
參 考 價(jià) | 面議 |
產(chǎn)品型號(hào)
品 牌
廠商性質(zhì)生產(chǎn)商
所 在 地北京市
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更新時(shí)間:2024-04-12 11:08:36瀏覽次數(shù):131次
聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)告知來(lái)自 環(huán)保在線介質(zhì)膜反射鏡,通常對(duì)入射角比較敏感,未特別說(shuō)明的情況下,默認(rèn)的介質(zhì)膜反射鏡入射角為45。
型號(hào) | 名稱(chēng) | 面精度 | 直徑(mm) | 厚度(mm) | 入射角 |
OML25.4-355-6.35 | 355nm反射鏡 | λ/10 | 25.4 | 6.35 | 45° |
OML20-441-3 | 441nm反射鏡 | λ/4 | 20 | 3 | 45° |
OML25-441-3 | 441nm反射鏡 | λ/4 | 25 | 3 | 45° |
OML25.4-441-3 | 441nm反射鏡 | λ/4 | 25.4 | 3 | 45° |
OML30-441-3 | 441nm反射鏡 | λ/4 | 30 | 3 | 45° |
OML50-441-3 | 441nm反射鏡 | λ/4 | 50 | 3 | 45° |
OML20-488-3 | 488nm反射鏡 | λ/4 | 20 | 3 | 45° |
OML25-488-3 | 488nm反射鏡 | λ/4 | 25 | 3 | 45° |
OML25.4-488-3 | 488nm反射鏡 | λ/4 | 25.4 | 3 | 45° |
OML30-488-3 | 488nm反射鏡 | λ/4 | 30 | 3 | 45° |
OML50-488-3 | 488nm反射鏡 | λ/4 | 50 | 3 | 45° |
OML20-532-3 | 532nm反射鏡 | λ/4 | 20 | 3 | 45° |
OML25-532-3 | 532nm反射鏡 | λ/4 | 25 | 3 | 45° |
OML25.4-532-3 | 532nm反射鏡 | λ/4 | 25.4 | 3 | 45° |
OML30-532-3 | 532nm反射鏡 | λ/4 | 30 | 3 | 45° |
OML50-532-3 | 532nm反射鏡 | λ/4 | 50 | 3 | 45° |
OML20-633-3 | 632.8nm反射鏡 | λ/4 | 20 | 3 | 45° |
OML25-633-3 | 632.8nm反射鏡 | λ/4 | 25 | 3 | 45° |
OML25.4-633-3 | 632.8nm反射鏡 | λ/4 | 25.4 | 3 | 45° |
OML30-633-3 | 632.8nm反射鏡 | λ/4 | 30 | 3 | 45° |
OML50-633-3 | 632.8nm反射鏡 | λ/4 | 50 | 3 | 45° |
OML20-800-3 | 800nm反射鏡 | λ/4 | 20 | 3 | 45° |
OML25-800-3 | 800nm反射鏡 | λ/4 | 25 | 3 | 45° |
OML25.4-800-3 | 800nm反射鏡 | λ/4 | 25.4 | 3 | 45° |
OML30-800-3 | 800nm反射鏡 | λ/4 | 30 | 3 | 45° |
OML50-800-3 | 800nm反射鏡 | λ/4 | 50 | 3 | 45° |
OML20-1064-3 | 1064nm反射鏡 | λ/4 | 20 | 3 | 45° |
OML25-1064-3 | 1064nm反射鏡 | λ/4 | 25 | 3 | 45° |
OML25.4-1064-3 | 1064nm反射鏡 | λ/4 | 25.4 | 3 | 45° |
OML30-1064-3 | 1064nm反射鏡 | λ/4 | 30 | 3 | 45° |
OML50-1064-3 | 1064nm反射鏡 | λ/4 | 50 | 3 | 45 |
注:還有不同尺寸、厚度的同類(lèi)產(chǎn)品,選購(gòu)時(shí)請(qǐng)咨詢我們。
2. 日本SIGMA KOKI介質(zhì)膜激光反射鏡
具有的反射率的多層電介質(zhì)膜反射鏡。
· 由于具有高反射率,連續(xù)使用幾個(gè)反射鏡反射后,損失也很小,可以適用于激光光束的多次反射的光路中。
· 由于使用多層電介質(zhì)膜,反射鏡面不易損傷,可以清潔。
· 使用吸收小的電介質(zhì)膜,可以承受大功率激光的連續(xù)照射。
日本SIGMA KOKI介質(zhì)膜激光反射鏡共同指標(biāo)
注意
?多層電介質(zhì)膜,因?yàn)槿肷涔馐钠鉅顟B(tài)不同其反射率波長(zhǎng)特性會(huì)有變化。P偏光與S偏光相比,反射率變低,反射譜區(qū)變窄。
?技術(shù)指標(biāo)的反射率是用P偏光和S偏光的反射率的平均值來(lái)表示的。
?以45°以外的入射角度使用時(shí),反射率有可能降低。
?在設(shè)計(jì)波長(zhǎng)以外的波長(zhǎng)區(qū)域使用時(shí),反射率有可能降低。
功能說(shuō)明圖
日本SIGMA KOKI介質(zhì)膜激光反射鏡外形圖
激光譜線多層電介質(zhì)膜平面反射鏡
日本SIGMA KOKI介質(zhì)膜激光反射鏡反射率波長(zhǎng)特性(參考數(shù)據(jù))
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主營(yíng)產(chǎn)品:太陽(yáng)能電池測(cè)試儀器(系統(tǒng))、LED檢測(cè)儀器(系統(tǒng))、光譜儀、光譜測(cè)量系統(tǒng)、光量測(cè)儀器、電控精密位移臺(tái)、手動(dòng)精密位移臺(tái)、光學(xué)調(diào)整架、光學(xué)平臺(tái)、光學(xué)元件
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